Producto

scia Mill Línea

Sistema de grabado basados en  ion beam etching

SCIA LOGO
Línea Mill

La línea Mill de Scia te permitirá grabar obleas de hasta 150mm, 200mm o 300mm.

Una fuente de haz de iones circular dibujara tu patrón en toda la superficie de la oblea. Ideal para estructurar memorias MRAM y sensores (IR, GMR, TMR), para el fresador de metales en la producción de MEMS o para la producción de estructuras tridimensionales para componentes optoelectrónicos, entra otras muchas aplicaciones.

Qué puedo hacer por ti 

El continuo desarrollo e inversión para estar cerca de nuestros clientes nos permite disponer de una amplia cobertura geográfica con sedes en las principales ciudades de España y Portugal, y soporte comercial y técnico en todas las comunidades que nos sitúa SIEMPRE CERCA DE USTED.

T. 900 810 061

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