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Sistema SI 500D

Sistema de PECVD que genera un plasma de alta densidad, baja energía iónica y presión.

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Sistema SI 500D

El sistema de deposición plasma enhanced SI 500D está configurado para depositar SiO2, SiNx, SiONx  y capas de a-Si entre temperatura ambiente y hasta los 350ºC.

Este sistema está especialmente diseñado para la deposición de barreras de protección en materiales orgánicos de gran eficacia a baja temperatura y la deposición de capas pasivadoras a temperaturas definidas.

Qué puedo hacer por ti 

El continuo desarrollo e inversión para estar cerca de nuestros clientes nos permite disponer de una amplia cobertura geográfica con sedes en las principales ciudades de España y Portugal, y soporte comercial y técnico en todas las comunidades que nos sitúa SIEMPRE CERCA DE USTED.

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