SENTECH Instruments GmbH


SENTECH LOGO

 

SENTECH desarrolla, fabrica y vende globalmente bienes de capital innovador centrados en películas delgadas en tecnología de semiconductores, microsistemas, energía fotovoltaica, nanotecnología e investigación de materiales. Experto en estructuración y deposición de películas delgadas mediante tecnología de proceso de plasma.

Ofrece sistemas para grabado con plasma, deposición química de vapor mejorada con plasma y deposición de capas atómicas, soluciones innovadoras para la caracterización óptica no invasiva y sin contacto mediante elipsometría y reflectometría.

 

¿En qué puedo ayudarte?


Isabel Gavaldá

Isabel Gavaldá

Product Specialist

igavalda@izasascientific.com

Sistema SI 500D

Sistema de PECVD que genera un plasma de alta densidad, baja energía iónica y presión.

ALD systems

SENTECH ALD permite depositar capas mediante termal y plasma enhanced operacions

Etchlab 200

Sistema de grabado mediante plasma inducido acoplado con la mejor relación calidad-precio.

SENresearch 4.0

Elipsometria espectroscópica en la gama espectral más amplia.

SENpro

Elipsometría espectroscópica más rentable sin renunciar a unas prestaciones de medición avanzadas.

Sendira

Elipsometría espectroscópica infraroja (FTIR)

CER SE 500adv

Superar los límites de la elipsometría láser: Determinación inequívoca del espesor con el mayor rango de medición.

SE 400ADV

El láser de HeNe estabilizado garantiza una precisión de 0,1 Å para la medición del espesor de capas ultrafinas.

RM 1000 Y RM 2000

Supera los límites de las mediciones del índice de refracción.

ICP-RIE SI 500

Sistema de grabado mediante plasma inducido acoplado.